HACW-Ⅲ型超臨界納米材料制備裝置
一、概述：
納米材料技術(shù)在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物***等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。超臨界流體沉積技術(shù)以其獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)得到眾多科研試驗(yàn)人員的親睞。
我公司在借鑒國(guó)外***技術(shù)的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)出超臨界抗溶劑結(jié)晶萃取裝置，該裝置可進(jìn)行GAS、SAS結(jié)晶試驗(yàn)以及超臨界萃取試驗(yàn)。超細(xì)微粒制作技術(shù)是利用超臨界情況下，降低壓力可以導(dǎo)致過(guò)飽和的產(chǎn)生，而且其達(dá)到飽和狀態(tài)的速度很快，固體溶質(zhì)可從超臨界飽和溶液中結(jié)晶出來(lái)，由于此技術(shù)在準(zhǔn)均勻介質(zhì)中進(jìn)行，可更為準(zhǔn)確的來(lái)控制結(jié)晶的過(guò)程。
二、裝置主要組成部分：
該裝置主要包括：萃取分離系統(tǒng)（萃取釜、分離釜）、結(jié)晶恒溫系統(tǒng)（GAS結(jié)晶釜、SAS結(jié)晶釜、恒溫箱）、制冷系統(tǒng)（制冷壓縮機(jī)、冷箱、儲(chǔ)罐）、壓力輸送系統(tǒng)（CO2高壓泵、平流泵）、控制系統(tǒng)（背壓閥、壓力調(diào)節(jié)閥、電加熱、溫度顯示、控制儀表）。
三、主要技術(shù)參數(shù)：
萃取釜：1000ml 50MPa
分離器：600ml 30MPa
GAS釜：1000ml 30MPa
SAS釜：1000ml 30MPa 間歇式
儲(chǔ)罐：3000ml 16MPa
冷?。?span lang="EN-US">LKPG300S 控溫精度&plu***n;1℃
CO2高壓泵：50MPa ***大流量50L/h 變頻調(diào)速
平流泵：P-3000 ***大壓力42MPa 流量0.001～9.999ml/h
恒溫箱：工作尺寸600×500×600mm
工作溫度：室溫～200℃ 控溫精度&plu***n;1℃
電 源：380V 50Hz
總功率：10kW
納米材料技術(shù)在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物***等領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。超臨界流體沉積技術(shù)以其獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)得到眾多科研試驗(yàn)人員的親睞。
我公司在借鑒國(guó)外***技術(shù)的基礎(chǔ)上，設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)出超臨界抗溶劑結(jié)晶萃取裝置，該裝置可進(jìn)行GAS、SAS結(jié)晶試驗(yàn)以及超臨界萃取試驗(yàn)。超細(xì)微粒制作技術(shù)是利用超臨界情況下，降低壓力可以導(dǎo)致過(guò)飽和的產(chǎn)生，而且其達(dá)到飽和狀態(tài)的速度很快，固體溶質(zhì)可從超臨界飽和溶液中結(jié)晶出來(lái)，由于此技術(shù)在準(zhǔn)均勻介質(zhì)中進(jìn)行，可更為準(zhǔn)確的來(lái)控制結(jié)晶的過(guò)程。
二、裝置主要組成部分：
該裝置主要包括：萃取分離系統(tǒng)（萃取釜、分離釜）、結(jié)晶恒溫系統(tǒng)（GAS結(jié)晶釜、SAS結(jié)晶釜、恒溫箱）、制冷系統(tǒng)（制冷壓縮機(jī)、冷箱、儲(chǔ)罐）、壓力輸送系統(tǒng)（CO2高壓泵、平流泵）、控制系統(tǒng)（背壓閥、壓力調(diào)節(jié)閥、電加熱、溫度顯示、控制儀表）。
三、主要技術(shù)參數(shù)：
萃取釜：1000ml 50MPa
分離器：600ml 30MPa
GAS釜：1000ml 30MPa
SAS釜：1000ml 30MPa 間歇式
儲(chǔ)罐：3000ml 16MPa
冷?。?span lang="EN-US">LKPG300S 控溫精度&plu***n;1℃
CO2高壓泵：50MPa ***大流量50L/h 變頻調(diào)速
平流泵：P-3000 ***大壓力42MPa 流量0.001～9.999ml/h
恒溫箱：工作尺寸600×500×600mm
工作溫度：室溫～200℃ 控溫精度&plu***n;1℃
電 源：380V 50Hz
總功率：10kW