鎂合金復(fù)合離子去毛刺拋光設(shè)備

是一種全新的金屬表面處理工藝綜合了電漿拋光、電化學(xué)拋光及ECD電化學(xué)去毛刺原理，且配套了我司自主研發(fā)的***節(jié)能型電源——僅在工件表面的分子層與電離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此電離子納米拋光處理可以化學(xué)活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。本公司進(jìn)一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進(jìn)一步降低，使拋光效果進(jìn)一步優(yōu)化。

此方法是將待拋光工件浸入加熱的中性鹽水溶液中，并對(duì)其施加正極性電壓，該電解液無(wú)公害且廉價(jià)，所施加的電壓為200-400V，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導(dǎo)電材料。在適當(dāng)?shù)墓ぷ鳁l件下，工件表面會(huì)出現(xiàn)穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會(huì)把被處理表面與電解質(zhì)水溶液隔開，從而導(dǎo)致表面與電解液蒸氣之間產(chǎn)生強(qiáng)烈的電離子體化學(xué)和電化學(xué)反應(yīng)，使被處理表面產(chǎn)生陰極氧化，同時(shí)又使陰極氧化層受到化學(xué)侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時(shí)出現(xiàn)拋光效果，其表現(xiàn)為光潔度上升及反射率提高。當(dāng)氧化層***薄且又足以抵御侵蝕作用時(shí)，其反射率出現(xiàn)***高值。微觀不平處的氧化層***薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位.此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會(huì)產(chǎn)生很高的電場(chǎng)強(qiáng)度，這種強(qiáng)度也在微觀不平處得到強(qiáng)化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達(dá)到拋光效果。鎂合金復(fù)合離子去毛刺拋光設(shè)備