




氧化膜的生長(zhǎng)過(guò)程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過(guò)程。
第三段c(曲線cd段):多孔層增厚。陽(yáng)極氧化約20s后,電壓進(jìn)入比較平穩(wěn)而緩慢的上升階段。表明無(wú)孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時(shí),新的無(wú)孔層又在生長(zhǎng),鋁氧化生產(chǎn)廠家,也就是說(shuō)氧化膜中無(wú)孔層的生成速度與溶解速度基本上達(dá)到了平衡,故無(wú)孔層的厚度不再增加,電壓變化也很小。但是,此時(shí)在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒(méi)有停止,他們?nèi)栽诓粩噙M(jìn)行著,鋁氧化加工廠,結(jié)果使孔的底部逐漸向金屬基體內(nèi)部移動(dòng)。隨著氧化時(shí)間的延續(xù),鋁氧化價(jià)格,孔穴加深形成孔隙,具有孔隙的膜層逐漸加厚。當(dāng)膜生成速度和溶解速度達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡時(shí),鋁氧化,即使再延長(zhǎng)氧化時(shí)間,氧化膜的厚度也不會(huì)再增加,此時(shí)應(yīng)停止陽(yáng)極氧化過(guò)程。陽(yáng)極氧化特性曲線與氧化膜生長(zhǎng)過(guò)程。
陽(yáng)極氧化工藝:
影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有:
電流密度:在一定限度內(nèi),電流密度升高,膜生長(zhǎng)速度升高,氧化時(shí)間縮短,生成膜的孔隙多,易于著色,且硬度和耐磨性升高;電流密度過(guò)高,則會(huì)因焦耳熱的影響,使零件表面過(guò)熱和局部溶液溫度升高,膜的溶解速度升高,且有燒毀零件的可能;電流密度過(guò)低,則膜生長(zhǎng)速度緩慢,但生成的膜較致密,硬度和耐磨性降低。
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鋁氧化有天然氧化,電化學(xué)氧化,化學(xué)氧化,堿性氧化,酸性氧化,陽(yáng)極氧化六種,意思是鋁及鋁合金的氧化處理的方法。鋁及鋁合金的氧化處理的方法主要有兩類。
天然氧化:氧化膜較薄,厚度約為0.5~4微米,且多孔,質(zhì)軟,具有良好的吸附性,可作為有機(jī)涂層的底層,但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽(yáng)極氧化膜。

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