




氧化膜的生長(zhǎng)過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。
第二段b(曲線bc段):多孔層形成。隨著氧化膜的生成,電解液對(duì)膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻,在膜很薄的地方將首先被溶解出空穴來,電解液就可以通過這些空穴到達(dá)鋁的新鮮表面,電化學(xué)反應(yīng)得以繼續(xù)進(jìn)行,電阻減小,電壓隨之下降(下降幅度為至高值的10~15%),膜上出現(xiàn)多孔層。
影響陽(yáng)極氧化氧化膜質(zhì)量的因素主要有:
氧化時(shí)間:氧化時(shí)間的選擇,取決于電解液濃度,溫度,陽(yáng)極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時(shí),膜的生長(zhǎng)速度與氧化時(shí)間成正比;但當(dāng)膜生長(zhǎng)到一定厚度時(shí),由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,鋁氧化生產(chǎn)廠家,而且由于溫升,鋁氧化價(jià)格,膜的溶解速度增大,所以膜的生長(zhǎng)速度會(huì)逐漸降低,到后面不再增加。
工藝鋁及其鋁合金陽(yáng)極氧化的方法很多,鋁氧化加工,常用的有***陽(yáng)極氧化、鉻酸陽(yáng)極氧化、草酸陽(yáng)極氧化、硬質(zhì)陽(yáng)極氧化和瓷質(zhì)陽(yáng)極氧化。***在稀***電解液中通以直流和交流電對(duì)鋁及其合金進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理,可獲得5~20微米厚,徐州鋁氧化,吸附性較好的無色透明氧化膜。***陽(yáng)極氧化工藝簡(jiǎn)單,溶液穩(wěn)定,操作方便,允許雜質(zhì)含量范圍較寬,電能消耗少,成本低,且?guī)缀蹩梢赃m用于鋁及各種鋁合金的加工,所以在國(guó)內(nèi)已得到了廣泛的應(yīng)用。
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